AVVISO DI GARA
 
   I.1)   Istituto   per  la  Microelettronica  e  Microsistemi,  Zona
Industriale  VIII  Strada  n.  5,  Catania  -  95121 - Italia Punti di
contatto:   Dott.ssa   Giovanna   Leanza;   Tel:   +39   095  5968283;
All'attenzione   di:   Dott.ssa  Giovanna  Leanza  Posta  elettronica:
giovanna.leanza@imm.cnr.it  Fax:  +39  095  5968312.  II.1.5) OGGETTO:
Fornitura,   installazione   e  resa  operativa  di  un  Apparato  per
deposizione  Plasma  Enahnced  Chemical  Vapour  Deposition  dotato di
sorgente  Inductively Coupled Plasma (ICPECVD) - Rif. CIG: 0277727391.
II.2.1)  QUANTITATIVO ED ENTITA': N. 1 Apparato per deposizione Plasma
Enahnced  Chemical  Vapour  Deposition  dotato di sorgente Inductively
Coupled   Plasma   (ICPECVD);   Valore   stimato,  IVA  esclusa:  Euro
310.000,00.  II.3)  TERMINE  ESECUZIONE:  gg. 160 (dall'aggiudicazione
appalto)  III.1.1)  Garanzia provvisoria prestata tramite fidejussione
bancaria  o  assicurativa pari al 2% dell'importo posto a base di gara
(Euro  6.200,00).  III.1.2) Finanziamento MIUR relativo al progetto di
ricerca  n.  DM17767  denominato  "PLAST_ICs".  III.2.1)  REQUISITI DI
PARTECIPAZIONE:   Come   da   documento  "Modalita'  di  presentazione
dell'offerta  e  norme  generali".  IV.1.1)  Procedura Aperta. IV.2.1)
AGGIUDICAZIONE:   Offerta  economicamente  piu'  vantaggiosa.  IV.3.4)
TERMINE  RICEZIONE  OFFERTE:  16/04/09  Ora:  16:00.  IV.3.7)  VINCOLO
OFFERTE: MESI 10. IV.3.8) APERTURA OFFERTE: 20/04/09 Ora: 11:30. VI.3)
BANDO  INTEGRALE  DI  GARA  E  DOCUMENTAZIONE DI GARA ALLEGATA, CUI SI
RINVIA,   PER   QUANTO  NON  ESPRESSAMENTE  INDICATO,  REPERIBILI  SU:
www.imm.cnr.it  o  www.urp.cnr.it.  VI.5)  SPEDIZIONE BANDO ALL'UPUUE:
03/03/09.

                           Il Direttore Imm
                    Dott. Rosario Corrado Spinella
 
T-09BFM2713 (A pagamento).